一、高純氬氣的簡介

　　氬作為制造單晶和多晶硅的保護氣體，如何選擇高純氬氣來提高硅晶體的質量，是制造硅晶體的問題。通過該高純氬氣裝置的使用，在氬的純度中氧氣含量低于1ppm，水分也低于1ppm時，制造出來的單晶硅的氧碳含量低于0.5ppm，可以提高單晶的使用壽命，滿足要求，從而獲得客戶滿意和市場需求。

　　因為一般的液體氬在汽化后沒有提純，所以它的氧氣含量一般為2ppm~5ppm。煤氣供應商提供的钚有時超出這個范圍，使用钚的客戶不知道其質量，因此經常影響產品的質量。使用氬精煉裝置后，不管氬原料氣體的質量如何，處理精制裝置后進入拉結晶爐的氬，純度總是恒定的。

　　一般氧氣含量低于0.5ppm，水分低于1ppm，因此穩定的氬保證了晶體生產的質量。

　　二、高純氬氣的精制方法

　　第一個：直接脫產法。使用活性金屬與氬中的氧氣反應，消化氬中的氧氣，以達到脫氧目的，通過分子篩吸收氬中的水分，使氬含量低于1ppm。

　　第二種：是使用吸入劑。在一定溫度下，吸入劑吸收氮、氫、氧、一 氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體進行處理后，氬的純度可以達到6個、9個，這種保護氣體更適合制造高純度半導體的單晶硅。

　　吸氣劑精制后使用氬純度：

　　第一種方法是設備投資少，設備中脫氧劑的壽命一般大于4年。

　　第二種方法是設備的純化純度高，但投資比較大，吸入劑的壽命為2年。

　　本公司還可以根據客戶的要求直接高壓，這樣就不必使用成型機增壓工藝了。

　　另外，根據客戶要求，分析儀在線時可以檢測設備的氣體純度。

　　三、高純氬氣的應用

　　高純氬用于焊接、不銹鋼制造和冶煉，半導體制造過程中化學氣相沉積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬用作生產單晶硅和多晶硅的保護氣體。

　　主要用途：新老用戶為本公司產品：氬凈化器、氬凈化器、高純氬凈化設備、YAC系列氬凈化設備、全自動氬凈化設備、大型氬凈化設備、硅材料產業氬凈化設備、硅材料氣站。